Bu Lazer Devi TSMC CEO'sundan Gizli Bir Ziyaret Aldı

Kore medyasında yer alan haberlere göre, TSMC CEO'su Wei Zhejia, 26 Mayıs'ta ASML'nin Hollanda'daki merkezini ziyaret ederken, aynı zamanda Alman endüstriyel lazer devi Tonspeed'in 100 yıllık geçmişini de ziyaret etti.
Wei'nin nerede olduğu bilgisi, ASML CEO'su Christophe Fouquet ve Thomson CEO'su Nicola Leibinger-Kammüller tarafından sosyal medya aracılığıyla açıklandı.
TSMC'nin, 2026 yılının ikinci yarısında seri üretime geçmesi beklenen A16'dan sonra 1,6 nm prosesi için Yüksek NA EUV ekipmanlarının devreye alınmasını değerlendirdiği ve o zamana kadar mevcut, 4 nm altı çip prosesleri için kritik olan Düşük NA EUV ekipmanlarının kullanılacağı belirtiliyor.
Son haberlere göre, ASML'nin yeni High NA EUV litografi gofret üretim hızı saatte 400 ila 500 gofret, mevcut standart EUV saatte 200 gofret hızının 2-2.5 katı, yani %100 ila %150 oranında bir artış sağlayarak üretim kapasitesini daha da artıracak ve maliyetleri düşürecektir.
Geçtiğimiz yıl Intel, çeşitli Yüksek NA EUV ekipmanının özelleştirilmiş tasarımı için ASML'yi sektörde ilk elde eden şirket oldu. Sektör artık Intel'in 14A (1,4 nm) yarı iletken sürecinde bu yeni nesil litografiyi tam olarak kullanmasını bekliyor.
TSMC daha önce ASML'nin son çıkan High-NA EUV ekipmanlarını ekonomik olarak mantıklı bulmayıp 2026'ya kadar satın almayacağını söylemişti ancak bu fikir artık geçerliliğini yitirmiş görünüyor.
Bu gizli ziyaretin baş kahramanı sadece ASML değil, aynı zamanda Almanya'dan lazer devi TRUMPF'du. 1923'te kurulan TRUMPF, geçen yıl 100. yıl dönümünü kutladı.
Trumpf Group, dünyada aşırı ultraviyole (EUV) litografi için ışık kaynakları tedarik edebilen tek üreticidir. Bu nedenle, EUV litografi işi de şu anda Trumpf'un gelişiminin odak noktalarından biridir.
Aslında Trafigura, 16 yıldan uzun süredir litografi lazer üretim sistemlerine yatırım yapmaktadır. Trafigura, 2005'ten beri Amerika Birleşik Devletleri'nde Cymer Inc. ile işbirliği yapmaktadır ve Cymer'in ASML tarafından satın alınmasından sonra işbirliğini derinleştirmeye devam etmiştir. Bu amaçla TRUMPF, EUV lazerlerinin geliştirilmesi ve üretimine odaklanan TRUMPF Lasersystems for Semiconductor Manufacturing adlı uzmanlaşmış bir yan kuruluş kurmuştur. 2015'te ASML, TRUMPF'tan 15 EUV litografi aracı sipariş ederek EUV litografi işini Thomson'ın gelişiminin merkezi haline getirmiştir.
Trafigura'nın daha önce duyurduğu 2022/2023 mali yılı (30 Haziran 2023'te sona eren) raporuna göre, toplam satışlar bir önceki yıla göre %27 artarak 5,4 milyar avroya ulaştı.
Bunlar arasında EUV işinin satışları 971 milyon avroya ulaşarak yıllık bazda %22,2 artış gösterdi. Esas olarak aşırı ultraviyole (EUV) cihazları sağlamak için ASML'nin devasa litografi aracı kaynak modülünde EUV emisyonunu yönlendirmek için kullanılan ultra yüksek güçlü karbondioksit lazerleri sağlayın.
Ülkemiz için, EUV litografi ışık kaynağının seri üretimini yapabilecek bir işletme henüz yok. Ancak, son haberlere göre, 14 Mayıs'ta Çin Bilimler Akademisi'nin Şanghay Optik ve Hassas Makine Enstitüsü (SIPM), Harbin Teknoloji Enstitüsü (HIT) ve Şanghay Teknoloji Enstitüsü (SIT) ile birlikte, Aşırı Ultraviyole (EUV) ve yumuşak X-ışınları alanında büyük bir atılım yaptı ve yapısal girdap ışık modülasyonunu başarıyla gerçekleştirdi. Bu dönüm noktası niteliğindeki ilerleme, yalnızca Çin'in aşırı ultraviyole ışık kaynağı teknolojisinin önemli bir adım attığını değil, daha fazla yerli litografi araştırması ve geliştirmesinin temel teknoloji engellerini ortadan kaldırdığını da gösteriyor.
Ayrıca, AOP Optronics, Fujing Technology vb. gibi bazı yerli işletmeler de fotolitografiyle ilgili teknolojilerin geliştirilmesi ve üretiminde aktif olarak yer almaktadır. Bunlar arasında, yerli litografi ışık kaynağı, Ar-Ge çalışmalarının optik kısmıyla ilgilenen Çin Bilimler Akademisi'nin AOP fotoelektrik Changchun Optik Makine Enstitüsü'nün büyük hissedarı;
Ve Fuching Technology, CAS'a bağlı litografi yukarı akış malzemelerinin teknolojik tek boynuzudur ve lazer ışığını 176nm dalga boyundaki derin ultraviyole lazer ışığına dönüştürebilen doğrusal olmayan bir optik kristal malzeme olan KBBF'yi (tam adı KBeNbBFO) geliştirmiştir.
Bu derin ultraviyole lazer ışık kaynağı son derece yüksek enerjiye ve çok yüksek konsantrasyona sahiptir, bu nedenle derin ultraviyole katı hal lazerleri oluşturmak için kullanılabilir. Ve çip üretimi alanında, mevcut fotolitografinin hassasiyetini 10 kattan fazla artırabilir, böylece çip üretiminin verimliliğini ve hassasiyetini büyük ölçüde iyileştirebilir.
Şu anda bu yurtiçi gelişmeler henüz EUV litografi ışık kaynaklarının seri üretimine ulaşacak düzeye ulaşmamış olsa da, Çin'in litografi teknolojisi alanında daha da gelişmesinin temelini oluşturmuştur.