Yakın zamanda, SEMICON Tayvan 2026 IC Forumunda, küresel litografi devi ASML, yüksek-hacimli üretime (HVM) doğru ilerleyen Yüksek-NA EUV (Yüksek Sayısal Açıklıklı Aşırı Ultraviyole) litografi makinelerinin en son temel verileri ve teknolojik ilerlemeleri hakkında ayrıntılı açıklamalar sundu.
Üretim ölçeği ve ekipman teslimatı ile ilgili olarak ASML, dünya çapında dört müşterinin kurulumları tamamladığını ve toplam 10 Yüksek-NA EUV sisteminin artık tamamen çalışır durumda olduğunu duyurdu. İlave üç sistem şu anda nakliye ve kurulum aşamasındadır. Bugüne kadar, bu makineler kümülatif olarak 1,35 milyondan fazla levhayı açığa çıkardı; bu da teknolojinin deneysel doğrulamadan tam-ölçekli endüstriyel uygulamaya geçişini işaret ediyor. Intel, Intel 18A işlem düğümünde belirli Core Ultra Series 3 işlemcilerin (kod adı Panther Lake) seri üretimi için bu teknolojiyi kullanarak bu teknolojiyi kullanarak liderliği ele geçirdi ve Yüksek-NA EUV kullanarak yüksek-hacimli mantık yongaları sevkiyatı gerçekleştiren küresel çapta ilk şirket oldu.
Ekipman performansı ve kararlılığı açısından, ilk-nesil seri-üretim modeli olan EXE:5200B, kabul testi sırasında HVM standartlarını karşılayarak saatte 135 levha (WPH) iş hacmi elde etti. Bu arada küresel filo kullanılabilirliği oranı %84'e yükseldi. ASML, bu oranın 2026 sonuna kadar %90'a ulaşacağını, uzun vadeli-hedefin ise %93 olacağını öngörüyor. ASML, mevcut NXE platformunun bakım deneyiminden yararlanarak makinelerin katman ve odak performansının katı seri üretim gereksinimlerini karşılamasını sağladı.
Teknolojik avantajlar ve gelecekteki yol haritaları açısından, önceki 0,33 NA EUV sistemleriyle karşılaştırıldığında, 0,55 NA Yüksek-NA EUV üstün çözünürlük sunar. Tek-modellemenin karmaşık çoklu-örneklemenin yerine geçmesine olanak tanıyarak kusur oranlarını, üretim döngü sürelerini ve gelişmiş düğümler için genel maliyetleri doğrudan azaltır. Ayrıca bu teknoloji, 2 boyutlu çip düzenleri için yeni tasarım alanları açarak metal ara bağlantı katmanlarının toplam sayısını potansiyel olarak azaltıyor. İleriye baktığımızda ASML, on yılı aşkın bir süreyi kapsayan istikrarlı bir teknoloji yol haritası oluşturmuştur. Şirket, EUV ışık kaynağı gücünü (600W'tan 1000W'a) artırarak ve diğer mekanik süreçleri optimize ederek, bu on yılın sonuna kadar ekipman verimini 180 WPH'ye çıkarmayı ve 2 nm düğümden Angstrom dönemine kadar yarı iletken üretimi için temel destek sağlamaya devam etmeyi hedefliyor.
